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截面Nb3Sn超导
计算机电线的发展
日立电缆是宣布成功开发niobium-tin(Nb3Sn)超导线* 1约1.5倍临界电流密度* 2,通过使用一个internal-tin过程* 3和single-stacking结构。
Nb3Sn超导线广泛用于超导磁体系统产生强磁场核磁共振(NMR)分析系统和核聚变设施如国际热核实验反应堆(ITER)。他们主要使用一个名为bronze-process的方法生产。bronze-process,钢坯将许多铜铌(Nb)核(Cu-Sn合金)是由挤压加工成细线和绘图过程。然后,结果multi-filamentary细线的形成是Nb3Sn超导线的热处理。
为了实现高精度的分析系统,有必要提高超导的临界电流密度。bronze-process,锡青铜(Sn)的浓度增加到提高临界电流密度。但进一步的改善是有限的,因为溶解极限的锡青铜(Sn),所以强烈要求一个新的制造工艺的发展。日立电缆成功地开发一个Nb3Sn超导线随着时间大约1.5高临界电流密度通过使用一个internal-tin过程和single-stacking结构。
我们已经开发出一种新型的internal-tin线用一个简单的横截面结构,可以使用生产
简单的制造工艺。这个超导
计算机电缆的一个显著特点是,multi-filamentary线的结构与mono-filamentary铌(Nb)元素和mono-filamentary锡(Sn)元素。与传统bronze-process相比,这个过程可以实现高临界电流密度,因为它有锡的浓度更高。此外,构成材料(Nb、锡和铜)和易性比青铜、中间退火过程可以被忽略。这意味着线可以制造比bronze-process在更短的时间。我们已经成功地制造一个Nb3Sn超导线的直径1.31毫米,长度5公里包含840注丝和421 Sn细丝。超导
计算机电缆特性测量的结果表明,临界电流密度345 /平方毫米18 t的磁场(特斯拉),约为1.5倍的bronze-processed电线。
日立电线有限公司是致力于研究和开发的超导线,进一步提高临界电流密度,扩大和加强我们的超导
计算机电缆业务。
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